跑分安卓第一！Redmi K60至尊版8月發(fā)布！盧偉冰：目標年度性能之王
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EUV光刻市場預計在2023年的94億美元基礎上，到2028年將達到253億美元，復合年增長率為21.8%。
EUV光刻技術解決了傳統(tǒng)光刻技術在分辨率方面已經(jīng)達到物理極限的限制。EUV光的較短波長使得在硅晶圓上創(chuàng)造更小的特征和更緊密的圖案成為可能，從而實現(xiàn)具有更高晶體管密度的先進微芯片制造。EUV光刻的關鍵組件是EUV光源，涉及產(chǎn)生和操控13.5納米高能光。這是通過使用激光從錫液滴中產(chǎn)生等離子體，從而發(fā)射EUV輻射來實現(xiàn)的。然后，EUV光通過一系列精密設計的鏡子反射和聚焦，將所需的圖案傳輸?shù)酵坑泄饷舨牧希ǚQ為光刻膠）的硅晶圓上。
EUV光刻相比以前的光刻技術具有幾個優(yōu)勢。首先，它允許芯片密度顯著增加，實現(xiàn)更強大和復雜的集成電路。其次，通過減少圖案傳輸所需的步驟，簡化了制造過程，提高了生產(chǎn)效率。最后，EUV光刻使得對關鍵尺寸的控制更好，減少了圖案的變異性，從而提高了芯片性能和產(chǎn)量。EUV光刻在高性能計算、人工智能和移動設備等各種應用中對先進集成電路的生產(chǎn)起著至關重要的作用。
在預測期內，晶圓代工廠將以最高復合年增長率增長。
在商業(yè)領域，晶圓代工廠是一種專門的制造設施，為半導體公司和集成器件制造商（IDM）提供半導體制造服務。晶圓代工廠主要專注于半導體行業(yè)的制造工藝，不參與芯片設計。晶圓代工廠通過為芯片設計（稱為知識產(chǎn)權）提供制造服務與fabless公司和IDM合作。提供半導體制造服務，包括EUV光刻，的重要代工廠包括臺灣積體電路制造股份有限公司、全球閃存公司、三星代工廠等。晶圓代工廠的增長可以歸因于它們在EUV光刻方面的重要投資，亞太地區(qū)國家在EUV光刻市場的擴展和發(fā)展中起著重要作用。
預測期內，EUV掩膜（EUV Mask）市場預計以第二高的復合年增長率增長。
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對于極紫外光刻（EUVL）這種先進光刻技術至關重要。EUV光刻是一種先進技術，用于制造具有更小特征尺寸和增強性能的下一代半導體器件。EUV掩膜在半導體晶圓上集成電路的圖案制定中起著重要作用，其中包含了在光刻過程中投影到晶圓上的電路圖案。與舊有光刻技術使用的傳統(tǒng)光學掩膜不同，EUV掩膜專門設計
用于與波長約為13.5納米的紫外光一起使用。它們由薄基底涂覆多層反射材料制成，這些材料有助于將EUV光反射和聚焦到晶圓上，實現(xiàn)精密的高分辨率圖案。EUV掩膜的復雜制造過程涉及先進的制造技術和嚴格的質量控制措施，以確保電路圖案的準確性和可靠性。許多公司涉足EUV掩膜和相關產(chǎn)品的制造，包括Toppan公司、KLA Corporation、ADVANTEST CORPORATION、AGC公司等。
亞太地區(qū)預計以最高復合年增長率增長。
亞太地區(qū)在EUV光刻領域具有重要意義。在考察該地區(qū)的EUV光刻市場時，中國大陸、日本、臺灣和韓國等地區(qū)處于前沿。臺灣在亞太地區(qū)占據(jù)最高的市場份額。
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