12月27日消息,據外媒報道,今日,集邦咨詢在《2023年全球光刻膠市場分析》報告中表示,2023年半導體光刻膠市場的銷售收入預計將同比下降6-9%。
圖片來源于集邦咨詢
該機構表示,隨著下游客戶庫存的持續改善、產能利用的逐步恢復,以及人工智能和智能汽車等應用的成熟和激增,半導體行業預計將在2024年迎來復蘇。半導體光刻膠市場也有望反彈,市場規模將恢復到2022年的歷史峰值,并進一步增長,到2027年將超過28億美元。
據悉,先進的半導體工藝除了依賴光刻機之外,還依賴光刻膠。光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料,它是光刻工藝中的關鍵材料,主要應用于顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形加工作業。
目前,光刻膠市場一直由東京應化工業(Tokyo Ohka Kogyo)、杜邦、JSR、信越化學、住友化學和東進世美肯(Dongjin Semichem)等主要制造商主導。其中,日本制造商的供應比例約為80%。在EUV、ArFi/ArF等先進光刻膠領域,JSR、TOK和信越化學等日本大公司占據絕對主導地位。
此前,在12月14日,集邦咨詢表示,全球光刻膠價格上漲,給半導體行業帶來了挑戰。據韓媒報道,由于原材料和勞動力成本不斷上漲,日本住友化學旗下的子公司Dongwoo Fine-Chemistry計劃提高面向韓國半導體公司的KrF和L-line光刻膠價格,漲價幅度因產品種類而異,大約在10%到20%之間。(小狐貍)
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