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Rapidus與多家半導體巨頭合作,加速2納米芯片研發

來源: 責編: 時間:2023-12-09 15:23:53 317觀看
導讀Rapidus計劃于2024年底引進極紫外光(EUV)曝光設備,以在2025年春季實現EUV曝光機的試產產線啟動。這一目標是在日本北海道新建的“IIM-1”工廠內實現,同時,該工廠預計在2027年達到量產2納米芯片的能力。Rapidus已經與全球的

Rapidus計劃于2024年底引進極紫外光(EUV)曝光設備,以在2025年春季實現EUV曝光機的試產產線啟動。這一目標是在日本北海道新建的“IIM-1”工廠內實現,同時,該工廠預計在2027年達到量產2納米芯片的能力。ms428資訊網——每日最新資訊28at.com


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Rapidus已經與全球的半導體巨頭IBM、ASML以及比利時的微電子研究中心(Imec)建立了合作關系,以學習并掌握最先進的芯片生產技術。這些合作機構將為Rapidus提供技術支持和培訓,以確保其在半導體領域的競爭力。ms428資訊網——每日最新資訊28at.com


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為了實現這一目標,Rapidus正在大力招聘工程師,并計劃在2027年量產時擁有約1000名工程師。這些工程師目前正在接受培訓,學習如何使用EUV曝光機制作2納米芯片的技術。ms428資訊網——每日最新資訊28at.com


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值得注意的是,臺積電和三星電子(Samsung Electronics)預計將在2025年量產2納米芯片,而英特爾(Intel)也計劃在2024年量產1.8納米芯片。相比之下,Rapidus的計劃稍顯落后,但該公司仍在努力追趕。ms428資訊網——每日最新資訊28at.com


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Rapidus正積極與全球半導體巨頭合作,以提升其在半導體領域的競爭力。雖然面臨著來自其他公司的競爭壓力,但Rapidus仍然堅持其目標,并致力于在半導體市場上取得一席之地。ms428資訊網——每日最新資訊28at.com


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