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三星將引入TEL極低溫蝕刻設(shè)備，速度可提升3倍

來源：責(zé)編：時間：2025-03-04 15:12:49 33觀看

導(dǎo)讀據(jù)韓媒報道，三星電子計劃在2025年完成最新一代3D NAND V10的量產(chǎn)準(zhǔn)備，并首次引入東京威力科創(chuàng)（TEL）的極低溫蝕刻設(shè)備。此前，三星在V8和V9的先進(jìn)極低溫蝕刻制程中僅使用美國科林研發(fā)的設(shè)備。極低溫蝕刻是在零下30度至零下60

據(jù)韓媒報道，三星電子計劃在2025年完成最新一代3D NAND V10的量產(chǎn)準(zhǔn)備，并首次引入東京威力科創(chuàng)（TEL）的極低溫蝕刻設(shè)備。

此前，三星在V8和V9的先進(jìn)極低溫蝕刻制程中僅使用美國科林研發(fā)的設(shè)備。

極低溫蝕刻是在零下30度至零下60~70度的環(huán)境下進(jìn)行，相比傳統(tǒng)蝕刻更加精準(zhǔn)，速度也可提升至原本的3倍。隨著TEL進(jìn)入三星供應(yīng)鏈，科林研發(fā)的獨占地位將受影響。

自2024年起，三星已在平澤第三工廠的NAND產(chǎn)線導(dǎo)入TEL的極低溫蝕刻設(shè)備進(jìn)行V10與V11的量產(chǎn)測試。此舉旨在降低對科林研發(fā)的依賴，降低成本并穩(wěn)定先進(jìn)制程設(shè)備供應(yīng)鏈。

對于存儲器業(yè)者而言，過度依賴特定設(shè)備供應(yīng)商存在負(fù)擔(dān)與風(fēng)險。TEL若能提供所需技術(shù)，將有助于三星降低成本并穩(wěn)定設(shè)備供應(yīng)鏈。

三星在NAND市場競爭激烈，此次策略調(diào)整顯示出其不想讓出主導(dǎo)權(quán)的決心。

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