據日本共同通信社和日經新聞報道，正在日本訪問的荷蘭首相Dick Schoof于4月22日參觀了位于北海道千歲市的Rapidus工廠。該工廠已啟動2納米芯片試產線，Schoof在參觀期間特別關注了由ASML提供的極紫外光（EUV）曝光機等關鍵設施。
ASML是全球唯一生產EUV曝光機的廠商，這種設備是制造2納米AI芯片等先進制程半導體的核心工具。Rapidus引進的EUV曝光機造價超過300億日元（約合2億美元）。Rapidus社長小池淳義在迎接Schoof時表示，EUV曝光設備是工廠最重要的資產。
Schoof在隨后的記者會上指出，減少對單一國家半導體芯片的依賴，推動Rapidus實現量產技術，不僅對日本，對荷蘭和歐洲也具有重要意義。他強調，歐洲與日本必須加強合作，共同提升半導體領域的生產技術。
在此之前，Schoof于4月21日與日本首相石破茂在首相官邸舉行會談。雙方討論了半導體合作等議題，并制定了一份包含軍事、經濟安全、數碼與科學技術等具體合作方針的移動計劃。石破茂在會后表示，歡迎眾多日本企業進駐荷蘭，并稱兩國在半導體領域的合作正在穩步推進。

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