快科技2月26日消息,隨著NAND閃存技術競爭日益激烈,三星電子公布的路線圖顯示,計劃到2030年開發出1000層的NAND閃存。
為了實現這一目標,三星計劃引入一種名為“多BV”(multi-BV)的NAND結構,通過堆疊四片晶圓來突破結構限制。
三星電子DS部門首席技術官宋在赫(Song Jae-hyuk)透露,三星將采用晶圓鍵合技術,分別制造外圍晶圓和單元晶圓,然后將它們鍵合在一起形成單一的半導體,這種技術預計將在三星的V10(第10代)NAND中首次應用。
此前,三星在NAND生產中采用的是COP方法,即將外圍電路放在一塊晶圓上,然后將單元堆疊在上面,隨著層數的增加,底層外圍電路的壓力會影響可靠性。
為了實現更高的層數,三星決定與長江存儲合作,使用其混合鍵合專利技術,從V10 NAND開始,三星將引入這一技術。
據ZDNet報道,三星計劃在2025年下半年開始量產V10 NAND,預計層數將達到420至430層。
除了晶圓鍵合技術外,三星還計劃在未來的NAND生產中引入多種關鍵技術,包括低溫刻蝕和鉬的使用,這些技術將從400層NAND開始應用。
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