快科技2月26日消息,美光宣布,基于新1γ納米工藝的DDR5 DRAM內(nèi)存芯片已經(jīng)投產(chǎn),性能、能效、密度等各項(xiàng)指標(biāo)都大幅提升。
DRAM內(nèi)存行業(yè)的節(jié)點(diǎn)工藝一直不標(biāo)注具體數(shù)值,而是1a、1b、1c、1α、1β、1γ這樣的迭代順序,越來越先進(jìn),其中1a比較接近20nm,1γ則接近10nm。
這是美光內(nèi)存第一次用上EUV極紫外光刻工藝,而三星、SK海力士早就用了,不過美光這次同時(shí)還引入了下一代HKMG金屬柵極技術(shù),預(yù)計(jì)全新的BEOL后端工序。
不過美光沒有透露使用了多少EUV光刻層,猜測(cè)目前只是在關(guān)鍵層上用EUV,否則就得多重曝光,增加時(shí)間和成本。
美光的1γ DDR5單顆容量為16Gb(2GB),可以輕松組成單條容量128GB的企業(yè)級(jí)產(chǎn)品,號(hào)稱容量密度比1β的再次增加30%,事實(shí)上之前每代提升工藝都能增加30%的密度。
它只需要1.1V的標(biāo)準(zhǔn)電壓,就能達(dá)到9200MHz(嚴(yán)格來說是9200MT/s)的超高頻率,而目前市面上常見的高頻內(nèi)存往往得1.35V甚至1.45V的高電壓。
更低的電壓不但更安全,還能節(jié)省功耗,號(hào)稱比1β工藝的多降低20%。
目前,美光1γ DDR5內(nèi)存只在日本工廠生產(chǎn),后續(xù)會(huì)逐步擴(kuò)大產(chǎn)能,相關(guān)產(chǎn)品預(yù)計(jì)今年年中左右上市。
未來,美光在中國(guó)臺(tái)灣的工廠也會(huì)引入EVU,并使用1γ工藝制造GDDR7顯存、LPDDR 5X高頻內(nèi)存(高9600MHz)。
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