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國產光刻膠通過量產驗證:極限分辨率達120nm

來源: 責編: 時間:2024-10-16 07:32:43 76觀看
導讀 今天,中國光谷官方公眾號宣布,光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現了巨大突破。根據官方介紹,武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現配方全自主設計,有望開創國內半導體光刻制

今天,中國光谷官方公眾號宣布,光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現了巨大突破。85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

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根據官方介紹,武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產品,已通過半導體工藝量產驗證,實現配方全自主設計,有望開創國內半導體光刻制造新局面。85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

據悉,T150 A對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列,在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大,穩定性更高,堅膜后烘留膜率優秀,其對后道刻蝕工藝表現更為友好。85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

此外,通過驗證發現,T150 A中密集圖形經過刻蝕,下層介質的側壁垂直度表現優異。85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

對此,太紫微公司企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示:85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

“以原材料的開發為起點,最終獲得具有自主知識產權的配方技術,這只是個開始,我們團隊還會發展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠,為國內相關產業帶來更多驚喜。”85M28資訊網——每日最新資訊28at.com

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