據(jù)官網(wǎng)資料，與現(xiàn)有的尼康i-line光刻機相比，NSR-2205iL1具有出色的性價比，無論何種晶圓材料，都可以優(yōu)化各種半導體器件的生產(chǎn)。該設備預計將于2024年夏季上市銷售。尼康表示，NSR-2205iL1代表了公司在過去二十五年中對5倍光刻技術的最重要更新，該系統(tǒng)的開發(fā)是對顧客需求的直接響應，這些光刻系統(tǒng)在芯片制造中發(fā)揮著至關重要的作用。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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尼康還指出，隨著電動汽車、高速通信和各種IT設備的普及，支持這些應用的半導體需求呈指數(shù)級增長。這些半導體必須執(zhí)行各種具有挑戰(zhàn)性的功能，因此，設備制造商需要專門的基板和曝光系統(tǒng)來制造這些芯片。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

過去尼康通常通過翻新光刻機來滿足這些光刻系統(tǒng)的要求。然而，翻新的光刻機供應可能有限，無法滿足客戶的需求。因此，為了提供額外的靈活曝光設備解決方案，尼康推出了一款新的5倍i-line光刻機，利用與客戶密切合作獲得的知識，為客戶提供專門的解決方案，以滿足市場需求，并解決有限和老化的光刻機供應問題。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

除了擴展各種功能選項以滿足客戶多樣化的需求外，這款新開發(fā)的i-line光刻機還將支持長期的設備生產(chǎn)。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

NSR-2205iL1將通過多點自動對焦（AF）、先進的晶圓臺平整技術以及寬深度焦點范圍（DOF）等多種優(yōu)點，在高精度晶圓測量的基礎上，為各種半導體制造過程提供高生產(chǎn)率，并優(yōu)化產(chǎn)量水平。此外，由于其晶圓厚度和尺寸的兼容性、高晶圓翹曲容忍度以及靈活的功能（包括但不限于支持SiC（碳化硅）和GaN（氮化鎵）加工），NSR-2205iL1 i-line光刻機非常適用于各種應用場景。這款光刻機將提供卓越的性價比，同時滿足芯片制造商多樣化的需求。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

NSR-2205iL1分辨率≦ 350 nm，曝光光源為i-line (365nm波長)，NA為0.45，最大曝光場22 mm x 22 mm。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

今年以來荷蘭、日本相繼出臺對華光刻機等半導體設備的限制措施，尼康已受到了影響。近日尼康公布的二季度業(yè)績顯示，二季度半導體用的光刻機僅賣出4臺，而去年同期是8臺；FPD用的光刻機賣了2臺，去年同期是7臺；整個2季度一共才賣出各種光刻機6臺，下滑60%。68B28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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