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日本DNP成功研發(fā)3nm EUV微影光罩

來源：責(zé)編：時間：2023-12-13 17:01:16 390觀看

導(dǎo)讀在一項突破性的科技成果中，大日本印刷株式會社（DNP）宣布成功研發(fā)出適用于3nm EUV微影的光罩。此次創(chuàng)新不僅將服務(wù)于半導(dǎo)體設(shè)備和材料制造商的研發(fā)需求，更是DNP展望2030年實現(xiàn)100億日圓的營收目標(biāo)的一步關(guān)鍵之舉。DNP計劃

在一項突破性的科技成果中，大日本印刷株式會社（DNP）宣布成功研發(fā)出適用于3nm EUV微影的光罩。此次創(chuàng)新不僅將服務(wù)于半導(dǎo)體設(shè)備和材料制造商的研發(fā)需求，更是DNP展望2030年實現(xiàn)100億日圓的營收目標(biāo)的一步關(guān)鍵之舉。

DNP計劃未來與imec等伙伴展開合作，共同推動2nm以后的光罩研發(fā)，著眼于半導(dǎo)體行業(yè)未來的技術(shù)挑戰(zhàn)。隨著全球僅有臺積電和三星電子能夠大規(guī)模生產(chǎn)3nm芯片，DNP的獨特光罩產(chǎn)品為該領(lǐng)域帶來了新的可能性。

目前，DNP的3nm EUV光罩將首先提供給半導(dǎo)體設(shè)備和材料制造商進(jìn)行研發(fā)，而未來的目標(biāo)則是向全球半導(dǎo)體廠商銷售。這一新技術(shù)的引入使得DNP和TOPPAN Holdings在全球光罩市場占有率高達(dá)五成，成為該領(lǐng)域的關(guān)鍵參與者。

據(jù)Global Information預(yù)測，到2029年，全球光罩市場規(guī)模有望達(dá)到77億3,928萬美元，相較于2022年將增長39%。這一預(yù)期顯示了該市場未來的巨大潛力，而DNP的創(chuàng)新將成為推動市場增長的引擎之一。

本文鏈接：http://www.tebozhan.com/showinfo-27-44267-0.html日本DNP成功研發(fā)3nm EUV微影光罩

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