據(jù)路透社報(bào)道，在SEMICON China 2025展會(huì)上，深圳市新凱來工業(yè)機(jī)器展示了多款自主研發(fā)的芯片生產(chǎn)設(shè)備。這些設(shè)備被認(rèn)為能夠助力生產(chǎn)先進(jìn)制程芯片，以應(yīng)對(duì)美國對(duì)中國先進(jìn)芯片及制造設(shè)備出口的持續(xù)限制。
新凱來制程設(shè)備產(chǎn)品線總裁杜立軍透露，盡管中國無法獲得先進(jìn)的極紫外光（EUV）曝光機(jī)，但公司已通過自主研發(fā)的非光學(xué)技術(shù)制程設(shè)備，解決部分蝕刻難題，從而實(shí)現(xiàn)5納米制程芯片的生產(chǎn)。據(jù)悉，該技術(shù)已在2023年申請(qǐng)專利，無需依賴EUV設(shè)備即可完成生產(chǎn)，同時(shí)降低制造成本。
半導(dǎo)體行業(yè)普遍認(rèn)為，荷蘭ASML的EUV技術(shù)是5納米及以下制程的關(guān)鍵。然而，中國廠商通過深紫外光（DUV）結(jié)合自動(dòng)對(duì)焦四重曝光（SAQP）技術(shù)，已成功突破部分限制。不過，杜立軍坦言，使用多重曝光技術(shù)實(shí)現(xiàn)從7納米到5納米的跨越，制造步驟增加了約20%，可能對(duì)生產(chǎn)良率產(chǎn)生影響。
新凱來由深圳市政府投資基金全資持有，母公司SiCarrier Technology成立于2021年。2023年12月，美國商務(wù)部將該公司列入出口管制實(shí)體清單，限制其獲取美國技術(shù)產(chǎn)品。目前，其蝕刻、沉積設(shè)備以及光學(xué)量測(cè)工具已獲中國主要晶圓代工廠采用，包括中芯國際。此外，有傳聞稱其與華為關(guān)系密切，但雙方均未證實(shí)。
在本屆SEMICON China展會(huì)上，新凱來展示了5款以中國名山命名的產(chǎn)品，包括外延沉積設(shè)備“峨眉山”、蝕刻設(shè)備“武夷山”、化學(xué)氣相沉積設(shè)備“長白山”、物理氣相沉積設(shè)備“普陀山”以及原子層沉積設(shè)備“阿里山”。
隨著中國企業(yè)在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的技術(shù)突破，美國的制裁效果正逐漸減弱，這有助于中國減少對(duì)外國技術(shù)的依賴，推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的自給自足目標(biāo)。杜立軍曾在一家全球領(lǐng)先的ICT公司任職23年，主導(dǎo)多個(gè)研發(fā)項(xiàng)目，目前負(fù)責(zé)新凱來的核心技術(shù)戰(zhàn)略布局，推動(dòng)公司業(yè)務(wù)快速增長。

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