據路透社報道，在SEMICON China 2025展會上，深圳市新凱來工業機器展示了多款自主研發的芯片生產設備。這些設備被認為能夠助力生產先進制程芯片，以應對美國對中國先進芯片及制造設備出口的持續限制。
新凱來制程設備產品線總裁杜立軍透露，盡管中國無法獲得先進的極紫外光（EUV）曝光機，但公司已通過自主研發的非光學技術制程設備，解決部分蝕刻難題，從而實現5納米制程芯片的生產。據悉，該技術已在2023年申請專利，無需依賴EUV設備即可完成生產，同時降低制造成本。
半導體行業普遍認為，荷蘭ASML的EUV技術是5納米及以下制程的關鍵。然而，中國廠商通過深紫外光（DUV）結合自動對焦四重曝光（SAQP）技術，已成功突破部分限制。不過，杜立軍坦言，使用多重曝光技術實現從7納米到5納米的跨越，制造步驟增加了約20%，可能對生產良率產生影響。
新凱來由深圳市政府投資基金全資持有，母公司SiCarrier Technology成立于2021年。2023年12月，美國商務部將該公司列入出口管制實體清單，限制其獲取美國技術產品。目前，其蝕刻、沉積設備以及光學量測工具已獲中國主要晶圓代工廠采用，包括中芯國際。此外，有傳聞稱其與華為關系密切，但雙方均未證實。
在本屆SEMICON China展會上，新凱來展示了5款以中國名山命名的產品，包括外延沉積設備“峨眉山”、蝕刻設備“武夷山”、化學氣相沉積設備“長白山”、物理氣相沉積設備“普陀山”以及原子層沉積設備“阿里山”。
隨著中國企業在半導體設備領域的技術突破，美國的制裁效果正逐漸減弱，這有助于中國減少對外國技術的依賴，推動半導體產業的自給自足目標。杜立軍曾在一家全球領先的ICT公司任職23年，主導多個研發項目，目前負責新凱來的核心技術戰略布局，推動公司業務快速增長。

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