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至訊創新科技獲半導體PVT差異消除專利,加速存儲芯片研發

來源:icspec 責編: 時間:2025-03-17 11:26:12 23觀看
導讀近日,國家知識產權局發布信息顯示,至訊創新科技(無錫)有限公司獲得了一項名為“半導體設計PVT差異消除電路、方法及集成電路”的專利,授權公告號為CN 119171887 B,申請日期為2024年11月。據公開資料顯示,該公司成立于2021年,
近日,國家知識產權局發布信息顯示,至訊創新科技(無錫)有限公司獲得了一項名為“半導體設計PVT差異消除電路、方法及集成電路”的專利,授權公告號為CN 119171887 B,申請日期為2024年11月。據公開資料顯示,該公司成立于2021年,總部位于無錫,是一家專注于存儲芯片技術創新的高科技企業。
至訊創新科技的核心團隊由長江存儲前CTO湯強博士領銜,匯聚了來自全球知名半導體企業的頂尖人才。公司致力于開發高性能存儲芯片,廣泛應用于消費電子、物聯網、監控、工業控制及汽車電子等領域。目前,至訊創新已成功量產19nm工業級2D NAND閃存芯片,并完成多輪融資,為邊緣端AI存儲技術的研發提供了強勁動力。
據公開資料透露,該專利技術的突破將進一步提升存儲芯片的性能和穩定性,為公司在高端存儲市場中占據一席之地提供技術支持。未來,至訊創新科技將繼續深耕存儲領域,推動技術革新與產業升級。

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