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絕緣層材料革新:突破AI運算互連效能瓶頸

來源:icspec 責編: 時間:2025-03-15 15:01:29 20觀看
導讀半導體絕緣層材料成本高且已成為傳輸速率的瓶頸。隨著AI技術蓬勃發展,大型數據中心競賽持續,能耗與數據傳輸速率需求激增。NVIDIA超級AI芯片傳輸速率已提升至224 Gbps,并向448 Gbps邁進,但散熱與互連速率瓶頸凸顯。高效能

半導體絕緣層材料成本高且已成為傳輸速率的瓶頸。隨著AI技術蓬勃發展,大型數據中心競賽持續,能耗與數據傳輸速率需求激增。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com


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NVIDIA超級AI芯片傳輸速率已提升至224 Gbps,并向448 Gbps邁進,但散熱與互連速率瓶頸凸顯。高效能導致高耗電,提升芯片及服務器溫度,降低效能。因此,需同時擴充能源供給與降低能耗。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com


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整個供應鏈都在尋求突破,其中絕緣層材料成為關鍵。低介電常數(k值)材料能降低能耗,提升數據速率。然而,目前主流絕緣材料k值多在3以上,遠非理想值1。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com


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新創企業已研發出k值接近2的材料,獲日本廠商關注,并有芯片實測結果。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com


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引入新材料需經過嚴格測試,確保其物性與化性穩定,且與現有制造流程兼容。盡管面臨挑戰,但新材料商機巨大。PCB市場年增長率約9%,絕緣層材料占比40%。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com


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半導體封裝市場年增長率達15%,2025年先進封裝將超傳統封裝,AI驅動的高端芯片封裝市場高速成長。因此,絕緣層材料革新將助力AI運算互連效能提升,迎來廣闊發展前景。RDw28資訊網——每日最新資訊28at.com

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