快科技1月7日消息,Intel官方宣布,位于俄勒岡州的晶圓廠已經收到ASML發(fā)貨的全球第一臺高NA(數(shù)值孔徑) EUV極紫外光刻機,型號為“Twinscan EXE:5000”,它將幫助Intel繼續(xù)推進摩爾定律。
Intel早在2018年就向ASML訂購了這種新一代光刻機,將用于計劃今年量產的Intel 18A制造工藝,也就是1.8nm級別。
Intel還第一個下單了改進型的Twinscan EXE:5200,將在2025-2026年用于更先進工藝。
根據(jù)此前報道,ASML將在2024年生產多10臺新一代高NA EUV光刻機,其中Intel就定了多達6臺。
到了2027-2028年,ASML每年都能生產20臺左右的高NA EUV光刻機。
新光刻機的價格估計至少3億美元,甚至可能達到或超過4億美元,也就是逼近人民幣30億元,而現(xiàn)有低NA EUV光刻機需要2億美元左右。
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