快科技2月27日消息,見證歷史的時刻!全球第一的存儲巨頭三星,居然購買中國長江存儲的專利技術,來打造未來產(chǎn)品,而在拿到授權的第一時間,三星就宣布了基于相關技術的成果:400多層堆疊的第十代V-NAND閃存。
和眾多傳統(tǒng)閃存廠商一樣,三星也是一直將CMOS控制電路放在存儲陣列之下,在同一塊晶圓上制造,而隨著堆疊層數(shù)、存儲密度的急劇增加,這種架構越來越難以推進。
長江存儲的Xtacking晶棧架構則是在兩塊晶圓上分別制造控制電路、存儲陣列,然后鍵合在一起,制造難度和成本大大降低,也有利于持續(xù)升級。
三星的第十代V-NAND,就將引入這種設計。
鎧俠/閃迪的閃存從第八代到日前剛發(fā)布的第十代,也是類似架構。
長江存儲晶棧架構
鎧俠新架構
三星第十代V-NAND將堆疊超過400層(具體數(shù)字未公開),奪回世界第一,超過開下剛剛創(chuàng)記錄的332層。
首發(fā)TLC,單Die容量1Tb(128GB),存儲密度每平方毫米28Gb,略低于三星1Tb QLC顆粒的平方毫米28.5Gb,也遠不如鎧俠第十代的大約每平方毫米36.4Gb,因為密度不是三星的首要目標,層數(shù)才是。
接口傳輸速度倒是領先,達到了5600MT/s,也就是700MB/s。
因此,只需10顆芯片就能吃滿PCIe 4.0 x4,20顆吃滿PCIe 5.0 x4,32顆就能吃滿PCIe 6.0 x4。
事實上,大多數(shù)NAND閃存芯片都是8顆或者16顆Die封裝而成,因此16顆就能做到單顆芯片2TB,M.2 SSD單面能做到8TB,雙面可達16TB。
當然,因為兼容性問題,雙面的并不多見。
按照三星的規(guī)劃,2030年左右將做到1000層堆疊!
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