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三星沖擊1nm工藝巔峰,2029年能否量產(chǎn)成焦點(diǎn)?

來源: 責(zé)編: 時(shí)間:2025-04-11 07:51:48 11觀看
導(dǎo)讀三星電子正全力以赴地推進(jìn)其1nm工藝的研發(fā)進(jìn)程,旨在高端芯片市場搶占先機(jī)。據(jù)相關(guān)消息透露,三星已正式成立專項(xiàng)研發(fā)團(tuán)隊(duì),致力于開發(fā)下一代1nm工藝節(jié)點(diǎn),并計(jì)劃于2029年投入量產(chǎn)。為了這一宏偉目標(biāo),三星電子半導(dǎo)體研究所已經(jīng)

三星電子正全力以赴地推進(jìn)其1nm工藝的研發(fā)進(jìn)程,旨在高端芯片市場搶占先機(jī)。據(jù)相關(guān)消息透露,三星已正式成立專項(xiàng)研發(fā)團(tuán)隊(duì),致力于開發(fā)下一代1nm工藝節(jié)點(diǎn),并計(jì)劃于2029年投入量產(chǎn)。2q928資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

為了這一宏偉目標(biāo),三星電子半導(dǎo)體研究所已經(jīng)啟動(dòng)了1nm工藝的研發(fā)工作。值得注意的是,部分曾深度參與2nm工藝研發(fā)的核心成員已被調(diào)配至該團(tuán)隊(duì),共同為實(shí)現(xiàn)這一“夢想中的半導(dǎo)體工藝”而努力。2q928資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,1nm工藝的研發(fā)難度極大,需要引入一系列全新的技術(shù)理念,并配備高數(shù)值孔徑的極紫外設(shè)備。然而,目前三星方面尚未公開確認(rèn)是否已訂購這些尖端設(shè)備。2q928資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

此番三星的大動(dòng)作,無疑是在向行業(yè)巨頭臺積電發(fā)起挑戰(zhàn)。長期以來,臺積電在先進(jìn)制程領(lǐng)域一直保持著領(lǐng)先地位,其2nm工藝預(yù)計(jì)將于2026年下半年率先實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),同時(shí)也在緊鑼密鼓地推進(jìn)1nm工藝的研發(fā)。相比之下,三星在2nm工藝上的良率表現(xiàn)尚不及臺積電,而其1.4nm工藝則預(yù)計(jì)將于2027年才能量產(chǎn)。2q928資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

面對如此激烈的競爭態(tài)勢,三星顯然希望通過1nm工藝的研發(fā)實(shí)現(xiàn)“技術(shù)逆襲”,從而在高端芯片市場占據(jù)更有利的地位。2q928資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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