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日本Dry Chemicals采用新工藝將SiC晶圓制造成本降低30%

來源： 責編： 時間：2023-09-11 22:35:17 340觀看
導(dǎo)讀9月11日消息，據(jù)日刊工業(yè)新聞報道，近期，日本Dry Chemicals開發(fā)出一種新的工藝，能夠?qū)⒐β拾雽?dǎo)體材料碳化硅(SiC)晶圓的制造成本降低20-30%。該新工藝的要點是在晶錠上進行開槽，使晶圓切片更加平整，從而減少晶圓表面研磨、拋

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9月11日消息，據(jù)日刊工業(yè)新聞報道，近期，日本Dry Chemicals開發(fā)出一種新的工藝，能夠?qū)⒐β拾雽?dǎo)體材料碳化硅(SiC)晶圓的制造成本降低20-30%。Ft328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com


該新工藝的要點是在晶錠上進行開槽，使晶圓切片更加平整，從而減少晶圓表面研磨、拋光等后處理所需的步驟，只需要在切割后立即進行鏡面研磨、化學(xué)機械拋光（CMP）、清潔和檢查即可獲得成品。Ft328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com


據(jù)悉，Dry Chemicals將于10月份開始晶圓代加工，并且對外銷售制造設(shè)備，預(yù)計第一年銷售5-10臺。Ft328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com


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