大連創銳光譜科技宣布,他們的無損光學檢測技術取得了突破性進展,同時推出專用設備SIC-SUB-9900。該設備采用瞬態激發和散射光譜原理,結合AI識別,能高速、精準地無損檢測碳化硅(SiC)襯底晶圓位錯缺陷。
相較于傳統X光形貌分析技術,SIC-SUB-9900操作簡單、檢測速度快,性價比更高。通過大面積成像,該設備在檢測速度上實現了質的飛躍,對于6吋晶圓樣品,最快檢測時間不到17分鐘。
位錯缺陷是SiC襯底晶圓質量的關鍵指標,直接影響外延層的質量和芯片的良率。因此,SIC-SUB-9900的精準檢測、識別和統計功能對襯底晶圓生產至關重要。
創銳光譜創立于2016年,以自主技術為基礎,專注科學儀器和半導體材料檢測領域。今年早些時候,SiC-MAPPING532系統成功下線,成為全球首臺套基于瞬態光譜技術的第三代半導體缺陷檢測設備,取得了國產替代進口產品的巨大成功。
創銳光譜的不斷創新和發展也在吸引資金。今年5月,公司宣布完成數千萬元天使輪融資,由君聯資本獨家投資,用于新技術開發和檢測設備量產。
這一新聞揭示了國內半導體市場對本土檢測設備的日益關注,同時也反映出半導體檢測設備本土化是一個不可避免的趨勢。在這個快速增長的市場中,國產技術逐步獲得認可,為半導體產業的可持續發展注入了新的活力。
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