一加Ace2 Pro官宣：普及16G內存 引領24G
一加官方今天繼續為本月發布的新機一加Ace2 Pro帶來預熱，公布了內存方面的信息。“淘汰 8GB ，12GB 起步，16GB 普及，24GB 引領，還有呢？#一加Ace2Pro#，2023 年 8 月，敬請期待。”同時
在國內芯片產業中，光刻機技術一直是制約發展的關鍵。在沒有ASML提供浸潤式光刻機和EUV光刻機的情況下，國產光刻機難以在7nm以下取得突破。
近年來，國內頻繁傳出光刻機突破的消息，但關鍵問題在于核心部件的國產化進展如何？
光刻技術是在特定波長的光照下，借助光刻膠將圖形轉移到基片上的工藝。核心部件包括光源系統、物鏡系統和雙工作臺。
光源系統使用193nm波長的深紫外線，目前上海微電子的90nm光刻機也采用了193nm波長，支持最高達到7nm。
物鏡系統是真正的難點，ASML使用的是由卡爾蔡司提供的，目前國產光刻機的物鏡系統尚處于90nm水平，但據稱長春光電所的物鏡系統已經達到32nm，尚待確認是否已應用于光刻機。
在物鏡系統方面，國內與ASML仍存在較大差距，可能是限制國產光刻機突破的重要因素之一。克服這一挑戰，將是國產光刻機向前邁進的重要一步。
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