一加Ace2 Pro真機揭曉 鈦空灰配色質感拉滿
終于，在經過了幾波預熱之后，一加Ace2 Pro的外觀真機圖在網上出現了。還是博主數碼閑聊站曝光的，這次的外觀設計還是延續了一加11的方案，只是細節上有了調整，例如新加入了鈦空灰
日本Canon社長兼CEO御手洗富士在近期的采訪中表示，Canon推出的納米壓印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）技術的半導體生產設備，相比荷蘭廠商ASML的極紫外光（EUV）曝光機，價格要便宜一位數（one digit less）。這一聲明無疑是對ASML在先進制程領域的統治地位的直接挑戰。
根據彭博社的報道，御手洗富士在2023年10月的訪談中指出，盡管具體的價格尚未確定，但Canon的NIL設備在成本上相較于EUV曝光機具有顯著優勢。他強調，許多半導體制造商對NIL技術展現出了濃厚的興趣。
值得一提的是，Canon的NIL技術被用于制造相當于5納米節點的邏輯IC電路，且未來有望進一步縮小到相當于2納米節點。這一技術能夠大大提升芯片的集成度和性能，進一步推動芯片制造技術的發展。
雖然Canon的NIL技術在制造速度上暫時無法與EUV曝光機相媲美，但其能耗只有EUV曝光機的10%，這一顯著的節能優勢將為芯片制造商帶來巨大的經濟效益。
當前，先進制程生產所需的EUV曝光機主要由ASML獨家制造。每臺EUV曝光機價值數億美元，只有少數如臺積電、三星電子等大型芯片制造商有能力采購。然而，由于各種原因，包括美國對國內半導體技術的封鎖，ASML已無法向國內出售EUV曝光機。這無疑為Canon的NIL技術提供了一個巨大的市場機會。
盡管御手洗富士明確表示，他理解14納米以下的技術出口是被禁止的，因此他并不認為NIL設備會取代EUV曝光機。但他堅信，NIL設備可以創造新的機會和需求，降低芯片制造商對晶圓代工廠的依賴，為小型芯片制造商提供全球競爭的機會，并降低進入先進制程芯片領域的門檻。
為了滿足中長期的需求，Canon已決定在日本栃木縣的宇都宮地區興建新廠以增加半導體曝光機的產能。這座新工廠的建設費用約為380億日圓（2.6億美元），并計劃在2025年上半年開始運營。
Canon的NIL技術的推出及其在市場上的表現，無疑將給ASML帶來嚴峻的挑戰。隨著半導體技術的日益復雜和先進制程的不斷推進，芯片制造商對于低成本、高效率和高度自動化的需求將越來越高。Canon的NIL技術能否在這方面提供足夠的解決方案，將是其能否在市場上取得成功的關鍵。
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