據媒體報道，當地時間4月30日，歐洲首個尖端半導體工廠在英國南安普頓大學正式投入運營。該工廠配備了全球第二臺、歐洲首臺的新型電子束光刻設備，將利用先進的電子束技術制造下一代半導體。
電子束光刻（Electron Beam Lithography, EBL）是一種基于電子束直寫或投影的納米級圖形加工技術，其核心特點在于突破光學衍射極限，能夠實現亞10納米級的超高精度加工。通過聚焦電子束，該技術可在材料表面刻畫出比人類頭發細數千倍的微小特征，分辨率遠超傳統光刻技術。此外，電子束光刻無需依賴掩膜即可直接進行圖案化處理，特別適合研發、原型設計以及小批量生產。
這項技術在先進半導體制造中發揮著重要作用，尤其是在高精度圖形加工領域。例如，它可用于制作光學掩模版、微納加工器件，同時也廣泛應用于科研與教育領域，助力高精度圖形的制作與研究。
英國科學大臣Patrick Vallance表示，南安普頓大學的新電子束設施將顯著提升該國在半導體領域的研發和制造能力，為技術創新提供強有力的支持。

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