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臺積電 CoWoS 封裝產(chǎn)能吃緊，芯片變大和 HBM 堆疊是兩大挑戰(zhàn)

來源： 責(zé)編： 時(shí)間：2024-05-20 17:46:41 138觀看
導(dǎo)讀 5 月 20 日消息，工商時(shí)報(bào)援引業(yè)內(nèi)人士信息，由于 AI 芯片需求激增，硅中間層面積增加，導(dǎo)致 12 英寸晶圓可切出的數(shù)量減少，進(jìn)一步加劇了 CoWoS 封裝的供不應(yīng)求情況。芯片變大集邦咨詢預(yù)估英偉達(dá)推出的 B 系列（包括 GB2

5 月 20 日消息，工商時(shí)報(bào)援引業(yè)內(nèi)人士信息，由于 AI 芯片需求激增，硅中間層面積增加，導(dǎo)致 12 英寸晶圓可切出的數(shù)量減少，進(jìn)一步加劇了 CoWoS 封裝的供不應(yīng)求情況。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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芯片變大

集邦咨詢預(yù)估英偉達(dá)推出的 B 系列（包括 GB200、B100、B200），將消耗更多的 CoWoS 封裝產(chǎn)能。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

IT酷哥此前報(bào)道，臺積電增加了 2024 年全年的 CoWoS 產(chǎn)能需求，預(yù)計(jì)到年底月產(chǎn)能將接近 4 萬片，相比 2023 年的總產(chǎn)能增長超過 150%。2025 年的總產(chǎn)能有可能增長近一倍。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

不過英偉達(dá)發(fā)布的 B100 和 B200 芯片，中間層面積（interposer area）將比以前更大，意味著 12 英寸晶圓切割出來的芯片數(shù)量減少，導(dǎo)致 CoWoS 的產(chǎn)能無法滿足 GPU 需求。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

HBM

業(yè)內(nèi)人士表示 HBM 也是一大難題，采用 EUV 層數(shù)開始逐步增加，以 HBM 市占率第一的 SK 海力士為例，該公司于 1α 生產(chǎn)時(shí)應(yīng)用單層 EUV，今年開始轉(zhuǎn)向 1β，并有可能將 EUV 應(yīng)用提升 3～4 倍。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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除技術(shù)難度提升外，隨著 HBM 歷次迭代，HBM 中的 DRAM 數(shù)量也同步提升，堆疊于 HBM2 中的 DRAM 數(shù)量為 4～8 個，HBM3／3E 則增加到 8～12 個，HBM4 中堆疊的 DRAM 數(shù)量將增加到 16 個。iDT28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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