韓國方面消息稱，蘋果正在為未來的iPhone相機測試一種新的抗反射光學涂層技術，該技術可以通過減少鏡頭光暈和重影等偽影來提高照片質量。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

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據Naver博客上的新聞聚合賬號“yeux1122”援引蘋果供應鏈中消息人士的話稱，蘋果正在考慮將新的原子層沉積(ALD)設備引入iPhone相機鏡頭的制造過程。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

ALD涉及一次在基片上沉積一層原子層的材料，允許對厚度和成分進行極其精確的控制。它的使用使制造商可以將非常薄的材料層應用到半導體設備上，包括相機組件。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

在相機鏡頭方面，ALD可用于應用抗反射涂層，這有助于減少當陽光等明亮光源直接照射到鏡頭時最終圖像中可能出現的光線條紋和光暈等攝影偽影。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

ALD還可以減少重影，這是一種圖像失真類型，在照片中出現微弱的次要圖像，通常與明亮的光源相對。當光線在鏡頭元件和相機傳感器的表面之間來回反射時，就會發生這種情況。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

此外，應用了ALD的材料可以防止環境對相機鏡頭系統的破壞，而不會影響傳感器有效捕捉光線的能力。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

Naver博客聲稱，這種制造工藝將被應用于蘋果“下一代”iPhone陣容中的“Pro機型”，這聽起來像是指iPhone 16系列中的一款或兩款高端機型。Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

來源 / 威鋒網Dob28資訊網——每日最新資訊28at.com

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