據(jù)外媒消息，近日，三星電子將本土公司東進世美肯半導體開發(fā)的用于高科技工藝的極紫外 (EUV) 光刻膠引入其量產生產線，據(jù)悉，這是三星進行光刻膠本土量產的首次嘗試，此前，韓國的光刻膠需求高度依賴于日本及從其它國家進口。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

公開資料顯示，光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料，是指經過紫外光、深紫外光、電子束、離子束、X射線等光照或輻射后，溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料，主要應用于積體電路和分立器件的細微圖形加工。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

外媒消息顯示，東進世美肯半導體的光刻膠在去年通過了三星電子的可靠性測試，距今不到一年就被應用于大規(guī)模生產線。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

目前，除了東進世美肯外，韓國本土企業(yè)永昌化學和SK材料性能也在開發(fā)光刻膠，但它們還沒有達到可靠性驗證的水平。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

光刻膠產業(yè)有著極高的行業(yè)壁壘。首先它對樹脂和感光劑等原材料要求較高，并且制作技術壁壘高，在研發(fā)和量產上都需要企業(yè)的長期技術積累。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

此外在產品送樣前，光刻膠生產商還需要購置光刻機用于內部配方測試，根據(jù)驗證結果調整配方。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

根據(jù)曝光波長的不同，光刻膠可以分為g線、i線、KrF、ArF以及EUV光刻膠5大類別，其中g線、i線一般用于250nm以上工藝，KrF、ArF和EUV光刻膠屬于高端光刻膠，KrF一般用于250nm-130nm工藝，ArF一般用于130nm-14nm工藝，EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

我國光刻膠市場格局Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

從整體業(yè)態(tài)來看，全球光刻膠市場高度集中，日本和美國企業(yè)把控著市場絕大部分市場份額。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

尤其是日本的JSR、TOK、信越化學、住友化學以及富士膠片四家企業(yè)便占據(jù)了超過全球80％左右的市場份額，且側重中高端光刻膠布局，壟斷地位穩(wěn)固。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

從我國光刻膠情況看，國產光刻膠產品主要集中在g/i線市場，同時廠商也在不斷發(fā)力KrF、ArF等高端光刻膠領域，并獲得了一定突破。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

在KrF光刻膠領域，北京科華和徐州博康已具備批量供貨能力，此外晶瑞電材11月末消息顯示，高端KrF光刻膠已完成中試，上半年KrF光刻膠生產及測試線已經基本建成，爭取今年批量供貨。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

上海新陽8月透露，光刻膠驗證工作還在進展中，KrF光刻膠已有訂單客戶超3家。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

ArF光刻膠主要用于ArF準分子激光光源的DUV光刻機的光刻工藝當中，是重要的光刻膠品類之一，國內廠商正處于技術開發(fā)或客戶驗證中。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

如南大光電11月消息顯示，其193nm Arf光刻膠已通過兩家客戶驗證，上海新陽ArF光刻膠則處于驗證階段。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

EUV光刻膠主要用于7nm及以下先進制程的光刻工藝，國內廠商EUV光刻膠處于早期研發(fā)階段，涉足企業(yè)包括上海新陽等。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

隨著全球半導體增產擴能的繼續(xù)，半導體產業(yè)鏈上游的半導體材料將持續(xù)受益，未來全球光刻膠市場增長勢頭明顯。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

此外，隨著各國自研加速，全球光刻膠市場格局或將迎來變革。Vj328資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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