Redmi Pad評測：紅米充滿野心的一次嘗試
從Note系列到K系列，從藍牙耳機到筆記本電腦，紅米不知不覺之間也已經(jīng)形成了自己頗有競爭力的產(chǎn)品體系，在中端和次旗艦市場上甚至要比小米新機的表現(xiàn)來得更好，正所謂“大丈夫生居
在半導體領(lǐng)域的合作浪潮中，三星電子與ASML宣布達成一項重要備忘錄，將聯(lián)手投資1兆韓元，在韓國設立先進半導體制程技術(shù)研究中心。此次合作還將利用下一代極紫外（EUV）曝光機進行深入研究。
與此同時，ASML還與SK海力士簽署了環(huán)境、社會和公司治理（ESG）備忘錄，雙方將在多個領(lǐng)域展開合作。這一消息表明了半導體行業(yè)內(nèi)強大的跨界合作趨勢。
上個月初的消息曝光，揭示了三星電子計劃在未來五年內(nèi)從ASML采購50套設備，每套設備約價2,000億韓圜，總價值可達10兆韓元。這顯示了三星電子對于EUV曝光機的強烈需求，以應對其全球首個采用全柵極（GAA）技術(shù)的3奈米半導體晶片制程技術(shù)。
三星電子的戰(zhàn)略目標是在2024年上半年實現(xiàn)第二代3奈米制程技術(shù)，并在2025年進入2奈米制程技術(shù)，最終在2027年達到1.4奈米半導體制程技術(shù)領(lǐng)域。為了實現(xiàn)這一目標，三星電子與ASML的合作成為關(guān)鍵一環(huán)。
值得關(guān)注的是，ASML計劃在2023年底前發(fā)布首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV曝光機，預計2025年開始量產(chǎn)。這將使客戶能夠從傳統(tǒng)EUV多重圖案化轉(zhuǎn)向High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產(chǎn)量。目前，ASML已鎖定包括英特爾、臺積電、SK海力士、美光等在內(nèi)的五大客戶。
三星電子與ASML的合作不僅在技術(shù)領(lǐng)域展現(xiàn)出強大合作潛力，同時也為半導體行業(yè)的未來發(fā)展注入了新的動力。
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