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英偉達(dá)下一代GPU或采用GAA技術(shù),性能提升20%

來源:icspec 責(zé)編: 時(shí)間:2025-03-30 08:40:18 18觀看
導(dǎo)讀據(jù)外媒Tom’s Hardware報(bào)道,英偉達(dá)CEO黃仁勛在GTC 2025大會(huì)訪談中提到,下一代GPU可能通過環(huán)繞柵極(GAA)晶體管技術(shù)實(shí)現(xiàn)約20%的性能提升。這款GPU預(yù)計(jì)為2028年推出的Feynman架構(gòu)。黃仁勛在訪談中提到,隨著摩爾定律的放緩,新
據(jù)外媒Tom’s Hardware報(bào)道,英偉達(dá)CEO黃仁勛在GTC 2025大會(huì)訪談中提到,下一代GPU可能通過環(huán)繞柵極(GAA)晶體管技術(shù)實(shí)現(xiàn)約20%的性能提升。這款GPU預(yù)計(jì)為2028年推出的Feynman架構(gòu)。
黃仁勛在訪談中提到,隨著摩爾定律的放緩,新制程技術(shù)在密度、功率和能效方面的改進(jìn)空間有限,因此制程節(jié)點(diǎn)的變化已不再是決定性因素。他強(qiáng)調(diào),管理大量GPU的效率比單個(gè)GPU的原始性能更加重要,特別是在人工智能系統(tǒng)規(guī)模不斷擴(kuò)大的背景下。
英偉達(dá)通常不會(huì)率先采用臺(tái)積電的最新制程節(jié)點(diǎn),而是選擇次新一代的尖端技術(shù)。例如,目前英偉達(dá)的Ada Lovelace、Hopper和Blackwell架構(gòu)GPU基于臺(tái)積電的4nm制程,該制程是5nm節(jié)點(diǎn)的改良版。其下一代RuBin架構(gòu)預(yù)計(jì)將采用臺(tái)積電3nm制程,可能是N3P或定制版本。
至于Feynman架構(gòu),英偉達(dá)可能會(huì)使用臺(tái)積電的N2制程技術(shù),或者其改進(jìn)版N2P。臺(tái)積電N2制程預(yù)計(jì)比N3E性能提升10%-15%,而A16節(jié)點(diǎn)制程則計(jì)劃在2027年投產(chǎn),具備背面供電功能,性能比N2提升8%-10%。
如果Feynman GPU采用N2P或A16制程,其每瓦性能預(yù)計(jì)將比基于N3P的RuBin GPU提升20%。不過,面對(duì)AI計(jì)算的高需求,英偉達(dá)似乎更注重性能的最大化,而非單純追求能耗優(yōu)化。

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