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美光1γ制程DRAM“另辟蹊徑”：僅用一層EUV光刻

來(lái)源：icspec 責(zé)編：時(shí)間：2025-03-14 12:48:01 21觀看

導(dǎo)讀2月下旬，美光科技宣布成為業(yè)內(nèi)率先向合作伙伴提供基于EUV光刻技術(shù)的1γ制程第六代（10nm級(jí)）DDR5內(nèi)存樣品的企業(yè)。不過(guò)，當(dāng)時(shí)美光并未透露該制程使用EUV光刻的層數(shù)。據(jù)《朝鮮日?qǐng)?bào)》報(bào)道，美光此次送樣的1γ DDR5內(nèi)存芯片僅采用

2月下旬，美光科技宣布成為業(yè)內(nèi)率先向合作伙伴提供基于EUV光刻技術(shù)的1γ制程第六代（10nm級(jí)）DDR5內(nèi)存樣品的企業(yè)。不過(guò)，當(dāng)時(shí)美光并未透露該制程使用EUV光刻的層數(shù)。

據(jù)《朝鮮日?qǐng)?bào)》報(bào)道，美光此次送樣的1γ DDR5內(nèi)存芯片僅采用了一層EUV光刻。美光這樣做的目的是通過(guò)減少EUV的使用，加快先進(jìn)制程DRAM的量產(chǎn)速度，同時(shí)降低生產(chǎn)成本。

美光選擇減少對(duì)EUV的依賴，關(guān)鍵層更多地基于成熟的氬氟浸沒(méi)式光刻（ArFi）制程。雖然ASML的下代深紫外光刻（DUV）系統(tǒng)（193nm波長(zhǎng)氬氟激光）可實(shí)現(xiàn)38nm特征尺寸圖案化，精確度比不上13.5nm波長(zhǎng)的EUV，但勝在成本更低。

美光認(rèn)為，EUV技術(shù)目前還未完全成熟，僅在必要時(shí)使用。從短期看，減少EUV使用能提升生產(chǎn)速度，但從長(zhǎng)期來(lái)看，過(guò)多使用可能會(huì)影響芯片的良率和性能。

與美光不同，韓國(guó)的三星和SK海力士在DRAM生產(chǎn)上更依賴EUV制程。三星自2020年起就用EUV制程生產(chǎn)DRAM，其第六代1C 10nm級(jí)DRAM使用了超過(guò)五個(gè)EUV光刻層；SK海力士在2021年導(dǎo)入EUV制程，下一代1C 10nm級(jí)DRAM也采用類似策略。

本文鏈接：http://www.tebozhan.com/showinfo-27-136715-0.html美光1γ制程DRAM“另辟蹊徑”：僅用一層EUV光刻

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