英特爾宣布,其位于俄亥俄州新奧爾巴尼的Ohio One晶圓廠一期工程將推遲至2030年完成,二期工程則將于2031年完成。此前,英特爾曾計劃在2025年完成一期工程。
俄亥俄州晶圓廠園區規劃占地約1000英畝,預計總投資將達到1000億美元。目前,該工廠已接受36次超級負載,投資超過640萬個工時,涵蓋地下管道、混凝土等關鍵設施。
然而,由于財務危機和市場需求的不確定性,英特爾推遲了建設進度。
英特爾代工制造執行副總裁表示,公司正在采取謹慎的方法,以確保項目以財務負責的方式完成。盡管俄亥俄州晶圓廠量產時間推遲,但相關招聘已經開始,員工已在其他州接受培訓。
此次延期表明,英特爾預計對其產能的需求不會很快飆升,這對公司資產負債表來說是個好消息。同時,通過推遲對生產設備的投資,英特爾大幅削減了2025年至2028年期間的資本支出。
預計新設施將使用英特爾在14A和14A-E之后開發的工藝技術,這些技術將依賴于先進的High-NA EUV光刻機。
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