快科技2月23日消息，近日，Intel更新了18A工藝的信息，表示其18A工藝（1.8nm）已經為首批客戶項目做好準備，并計劃在2025年上半年開始流片。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

有市場人士聲稱，Intel的18A工藝將是世界上首個小于2nm的工藝，這也使得臺積電的工藝技術落后Intel一年。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

Intel 18A除了SRAM密度可以趕上臺積電，每瓦性能提高15%，芯片密度比至強6系列處理器采用的Intel 3工藝提高了30%。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

同時Intel結合了GAA晶體管架構，另外還引入了PowerVia背部供電技術，這也是Intel解決處理器邏輯區域電壓下降和干擾的首選方法。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

相比之下，臺積電計劃在2025年底開始量產2nm N2制程，首批消費級產品預計在2026年中推出。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

Intel計劃將18A制程應用于即將推出的Panther Lake筆記本處理器和Clearwater Forest服務器CPU，這兩款產品預計將在年底前上市。9bq28資訊網——每日最新資訊28at.com

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