12 月 15 日消息,DRAM 芯片制造商長鑫存儲(CXMT)近日出席在舊金山舉辦的第 69 屆 IEEE 國際電子器件會議(IEDM),發表了一篇論文,展示了環繞式閘極結構(Gate-All-Around,GAA)技術,適用于尖端 3nm 芯片。
注:專利中提及 GAA 技術適用于包括 5nm、7nm、10nm 和 14nm 在內的 3nm 以下芯片,但這并不代表著長鑫存儲當前具備制造 3nm 的能力。
根據《南華早報》報道,長鑫存儲雖然沒有發布相關的樣品,但本次論文的發布,引發了行業分析師對該公司下一代內存的廣泛關注,表明長鑫在面對美國封鎖下,不斷加強自主芯片開發能力。
華邦電子的儲存芯片專家 Frederick Chen 表示,長鑫存儲的進展令人印象深刻,因為代表這家公司達不斷追趕,縮小在技術方面的差距。
長鑫存儲發表聲明稱,該論文描述了與 DRAM 結構和 4F2 設計可行性相關的基礎研究,與長鑫存儲當前的生產工藝無關,暗示該設計紙張還遠未成為一種適銷對路的產品。
長鑫存儲兩周前發布,已生產出大陸首款低功耗雙倍資料速率 5(LPDDR5)DRAM 芯片,縮小了與韓國三星和 SK 海力士等領先廠商的差距。
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